Herkomst extreem ultraviolet licht ontrafeld
Op aarde komt extreem ultraviolet licht (euv-licht) van nature niet voor. Maar in geavanceerde chipmachines van ASML in Veldhoven wordt het gebruikt om extreem kleine structuren in nanochips te etsen.
Euv-licht met een golflengte van 13,5 nanometer wordt gemaakt door een druppel tin met een laser te verhitten tot een plasma van 400.000 graden Celsius. Hoe dat licht vervolgens ontstaat, was niet helemaal duidelijk.
Samen met collega’s van het Amerikaanse Los Alamos National Laboratory hebben onderzoekers van het Nederlandse onderzoeksinstituut ARCNL ontdekt dat in een tinplasma tinatomen uiteenvallen in negatief geladen elektronen en positief geladen tinionen en euv-straling.
De wetenschappers hadden een supercomputer nodig om te berekenen hoe het euv-licht tijdens het verhitten van tin kon ontstaan. Ze publiceerden hun bevindingen vorige week in Nature Communications.